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    • XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀

      XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了X射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù),利用該技術(shù),即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強(qiáng)度。X射線毛細(xì)導(dǎo)管將X射線源的大部分射線收集,并將其聚焦成直徑35微米的一個X射線點。

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      更新日期:2023-03-20
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    • 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685

      精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685,一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對于同一個樣品,可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。

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      更新日期:2023-03-20
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    • ChromaCL2第二代實時彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng)

      ChromaCL2第二代實時彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng),是一款*的產(chǎn)品。它具有高效的光學(xué)采集和色散能力,采用陣列光電倍增管得到高增益光探測能力。通過DigitalMicrograph軟件實時地將光子脈沖信號混合成實時彩色陰極發(fā)光圖像。

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      更新日期:2023-03-20
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    • Gatan原位加熱臺Murano 525

      Gatan原位加熱臺Murano 525,精悍緊湊,能方便地與大多數(shù)掃描電鏡的標(biāo)準(zhǔn)樣品臺接口,它包含一個絕熱接口,適用于二次電子像、電子背散射衍射(EBSD)與聚焦離子束(FIB)加工。能夠?qū)Υ笾?mm x 4.5mm x 1.5mm大小的樣品進(jìn)行快速加熱。

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      更新日期:2023-03-20
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    • MICROTEST 2000E系列原位動態(tài)拉伸試驗臺

      MICROTEST 2000E系列原位動態(tài)拉伸試驗臺,可以對金屬樣品施加高達(dá)2000N的拉力,用戶EBSD分析,或者對一些其他材料進(jìn)行常規(guī)的應(yīng)力-應(yīng)變分析和SEM成像。試樣夾具70度角度傾斜,為EBSD分析提供了的設(shè)置。

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    • MICROTEST系列原位動態(tài)拉伸試驗臺

      MICROTEST系列原位動態(tài)拉伸試驗臺,金屬及鍍層:用于研究晶粒變化、鍍層結(jié)合情況、高溫形變及松弛機(jī)理、晶粒旋轉(zhuǎn)及織構(gòu)變化。復(fù)合材料:用于研究材料韌性及強(qiáng)度;纖維:研究材料強(qiáng)度

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      更新日期:2023-03-20
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